集成光子、量子芯片的布图设计,也能纳入布图设计保护吗?
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集成光子、量子芯片的布图设计可以进入修订条例的明文保护范围,但仍要分别核对独创性、保护排除项和登记产生专有权的条件。
如果团队正在做集成光子、量子等新型芯片,常会问:条例既然点名这些功能,芯片属于该类别,布图设计是否就已经受到保护?
先说结论:可以纳入,但不能仅因属于该类别就认定已经取得专有权。修订后的《集成电路布图设计保护条例》明确,对集成光子、量子等功能的集成电路布图设计,可以依照条例予以保护。落到具体成果上,还要分开核对四件事:保护对象是什么,是否具有独创性,哪些内容被排除,以及是否已经登记。
一、明文范围扩大,仍要落到具体布图设计
集成光子、量子是功能或技术方向的标签,不能替代对布图设计本身的判断。条例第三条所称布图设计,是集成电路中至少有一个有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。
因此,团队首先要把“芯片属于什么功能”与“申请保护的具体三维配置是什么”分开整理。要识别的是图样或复制件呈现出的配置,以及其中可能具有独创性的设计区域、设计要点和相应功能。
二、独创性不是“新型”二字的同义词
明文列入范围,并不等于每一份布图设计都当然符合保护条件。条例第六条要求,受保护的布图设计应当是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时,在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。
判断不能停留在“这是集成光子芯片”或“这是量子芯片”,而要把独创性落到具体设计区域和设计要点,再说明对应功能。即使由常规设计组成,也不是因此当然排除;关键是其组合作为整体是否符合独创性条件,并让主张与可核对的布图内容对应。
三、保护对象有边界:不延及思想和方法
条例第七条明确,布图设计保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。对研发团队来说,软件、算法、工艺流程或数学概念,即使服务于芯片研发,也不能直接等同于布图设计保护对象。
整理材料时,不要用技术方案说明、算法逻辑或工艺步骤本身替代具体布图设计。本文讨论的是元件及互连线路的三维配置;其他知识产权或合规问题,不能由本题结论顺带推出。
四、登记产生专有权,完成设计不等于已经获权
完成类别识别并说明独创性区域,仍不能跳过登记。条例第十二条规定,布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生;未经登记的布图设计不受条例保护。
团队应先固定具体三维配置,再梳理独创性区域、设计要点及相应功能,最后对照登记材料。条例第二十二条列明申请表、复制件或者图样、独创性声明及其他规定材料;独创性声明需说明独创性设计区域、设计要点及相应功能。已投入商业利用的,还应提交含有该布图设计的集成电路样品。
五、现在应当怎样整理申请材料?
修订后的条例由国务院令第842号于2026年7月23日公布,自2026年10月15日起施行。本文不对施行前的申请、商业利用或过渡效果作回溯判断;如涉及存量项目,应另行核对适用规则和官方实施安排。
当前建议形成一条材料链:芯片功能类别、具体三维配置、独创性区域与要点、对应功能,以及登记材料。这样才能把“明文纳入可以保护的范围”与“具体项目符合独创性并已因登记产生专有权”分开。
公开原文:中国政府网:集成电路布图设计保护条例。